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無掩膜光刻機銷售昊量供上海無掩膜光刻機供應

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品　　牌：
美國Hinds Instruments公司

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出廠價：
1

主要規格：
DMD無掩膜光刻機

用　　途：

無掩膜光刻機銷售昊量供上海無掩膜光刻機供應 AU-PALET光刻機是一款緊湊的DMD式無掩膜光刻機擁有高速、廣范圍、低價格、高分辨率、操作簡單和可靠性高等特點。 DMD式無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數字掩膜,可在抗蝕劑內曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數據，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現了穩定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm′0.6mm，曝光時間僅需1s。結合電動移動平臺，可實現曝光拼接，分辨率可達到3mm。可通過公司編寫的軟件完成詳細設定，使操作簡潔方便。與傳統的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數字掩膜光刻技術，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數據，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。 AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源，相對于其它的光源，擁有更高的穩定性和更長的壽命，降低價格的同時實現了穩定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm′0.6mm，結合電動平移臺可實現曝光拼接，可達到更大的曝光面積。可通過公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設定，操作簡潔方便。上海昊量光電設備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。 ① AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源，實現了穩定的曝光，并且擁有更高的穩定性和更長的壽命。采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到5mm，并在10s 內完成曝光。 ②AU-PALET-_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源，采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內完成曝光。 u 主要特點 l 高速度（1s） l 廣范圍（1′0.6mm） l 365nm LED光源 l 高分辨率（3mm） l 成本低 u 主要應用磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成傳感器，半導體器件的制作 MEMS器件的試制、光電子，LED的試制微流體器件的試制掩膜版制作細胞分離通道等的制作光波導路的制作

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