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Nisene自動塑封開封機-Jetetch II

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自動塑封開封技術的世界領導者 Nisene公司(前身是B&G International)作為自動塑封開封技術的世界領導者, 可以提供全面的產品,方法和技術支持來滿足所有半導體器件的開封要求. Nisene公司承諾提供創新的, 高質量的產品來滿足半導體器件失效性分析領域內不斷變化的需求. 我們的任務就是持續提供我們的產品和服務來滿足我們客戶的需求, 并且提供最快的,最精確的,可重復的和安全的開封技術, 這個目標只有自動塑封開封技術才可能實現. Jetetch II自動塑封開封機 Nisene公司為全世界的客戶在半導體器件失效分析領域提供幾種解決方案. 1980年, 第一臺自動塑封開封機的問世以來, Nisene不斷改進他們的自動塑封開封機, 型號也從250, 350, D-cap,發展到現在，最新的型號為Jetetch II. Jetetch II自從1999年在新加坡Semicon§展會上首次展出以來，得到了廣泛的歡迎。其顯著的特點為： · 用戶可以自己設定硝酸和硫酸混合比,比例設定范圍很寬,多達13種§ · 溫度可以設定，范圍為20-250§度 · §兩種刻蝕模式: 脈沖式和往復式 · §特有的往復式刻蝕模式可以做到用更少的酸,以更快的速度來開封 · §刻蝕劑流量調節：可連續調節從1.0 到6.0 毫升每分鐘 · §可以存貯100組刻蝕程序，隨意調取 · §刻蝕時間：10秒到1800秒，以1秒增加 · §刻蝕頭終身保用 · §刻蝕頭可以設計成分體的,可以根據不同樣品進行更換刻蝕頭(選件) · §專利泵的設計可以實現抽吸雙向的功能 · §可以對廢酸進行分流處理避免潛在的危險 · §安全的設計, 使得酸瓶更加容易更換 · CE認證和SEMI S-2認證 OmniEtch芯片逐層去除系統 Nisene公司很高興宣告最新的,最好的利用濕法刻蝕來達到芯片逐層去除的新產品---- OmniEtch§芯片逐層去除系統. 其特點: §用戶可以自行選定刻蝕用化學品, 刻蝕時間, 刻蝕溫度. §刻蝕速度可以設定 §具有樣品觀察窗 §刻蝕劑用量少 §樣品放置簡單 §控制鋁, 銅, 氧化物, 和其他金屬的刻蝕 §兼容大多數酸性和基本的化學品 §可以逐層去除芯片 §專利的刻蝕介質 §不會對樣品造成熱和機械的損傷 CE and SEMI S-2 認證

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田經理

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