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接近接觸式EVG光刻機(jī)

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接近接觸式EVG光刻機(jī) 　　EVG620系列單面/雙面光刻機(jī)簡(jiǎn)介　　EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國(guó)、日本和中國(guó)臺(tái)灣設(shè)有分公司，并在其他各地設(shè)有銷(xiāo)售代理及售后服務(wù)部，產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。　　EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的供應(yīng)商，其豐富的產(chǎn)品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。　　目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。　　EVG620是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備，可配置為半自動(dòng)也可以為全自動(dòng)形式。EVG620既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作150mm硅片的精確對(duì)準(zhǔn)設(shè)備；既可以用作研發(fā)設(shè)備，也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補(bǔ)償系統(tǒng)配以計(jì)算機(jī)控制的壓力調(diào)整可以確保良率和掩膜板壽命的大幅提升，進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。EVG620良好的對(duì)準(zhǔn)臺(tái)設(shè)計(jì)在保證精確的對(duì)準(zhǔn)精度和曝光效果的同時(shí)，可以大幅提高產(chǎn)能。　　EVG620系列單面/雙面光刻機(jī)應(yīng)用范圍　　EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖形光刻應(yīng)用。　　https://www.chem17.com/st320260/erlist_1845953.html 　　https://www.chem17.com/st320260/product_30336906.html

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