檢測認證人脈交流通訊錄
- Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 Quantum X的核心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。這種具有創新性的增材制造工藝大大縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。 詳細介紹 Nanoscribe工業級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X 德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。 這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 Nanoscribehttps://www.chem17.com/st425611/product_33244044.html https://www.chem17.com/st425611/erlist_1992288.html
