提供上海氨逃逸光譜分析儀原理-知名品牌宜先供

     目前，有效、性價比高的高溫氨逃逸分析儀方法，就是TDLAS法。上海宜先的氨逃逸分析儀采用QCL+TDLAS技術，目標譜線是氨、氮氧化物分子在中紅外波段最強吸收峰。分子光譜學研究表明，氣體小分子中紅外吸收譜線比近紅外吸收譜線強數十倍甚至數千倍，在同樣測量條件下，檢測精度可達ppb級別，是近紅外TDLAS數十倍。

        在脫硝過程中(基本原理是利用加氨還原的方法)，則脫硝流程出口的逃逸氨(殘余氨)濃度檢測非常重要，因為逃逸氨是反映脫硝效率的指標之一，過量的氨逃逸將腐蝕脫硝催化劑，造成催化劑的失效和堵塞，大大縮短催化劑的壽命，同時也過量的逃逸氨生成的銨鹽會嚴重影響后續設備正常運行，造成浪費和環境的污染。

氨逃逸分析儀特點：

• 樣品從采樣到分析全程高溫伴熱，過程無冷點，保證數據不失真
• 系統一體化設計，安裝維護方便
• 智能化控制系統，采樣探頭自動吹掃，高精度控制溫度，溫度超限自動報警，全程分析過程無人值守24H工作
• 可靈活選配NO分析模塊，實現NH3/NO同時測量，提供更科學有效的脫硫脫硝控制數據
• 采用多探頭平均分布方式，準確測量煙道內NH3/NO的平均含量，避免煙道口徑過大時帶來的測量誤差
• 系統可實現多通道同時測量功能，減少用戶設備采購成本