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LASERTEC 光掩模缺陷檢測系統(tǒng) MATRICS X700系列

主要規(guī)格：
hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質(zhì)管理に最適な裝置位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補(bǔ)正）マスクに対応光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達(dá)成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）

用　　途：
「フォトマスク欠陥検査裝置　MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業(yè)の発展に大きく貢獻(xiàn)したことが評価され、一般社団法人レーザー學(xué)會より、レーザー學(xué)會産業(yè)賞「奨勵賞」を受賞いたしました。

特長 hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質(zhì)管理に最適な裝置位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補(bǔ)正）マスクに対応光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達(dá)成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）「フォトマスク欠陥検査裝置　MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業(yè)の発展に大きく貢獻(xiàn)したことが評価され、一般社団法人レーザー學(xué)會より、レーザー學(xué)會産業(yè)賞「奨勵賞」を受賞いたしました。用途ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査マスクショップにおける出荷前検査（ペリクル貼り付け後も検査可能）仕様検査方式マルチダイモード（アレイモード含む）、シングルダイモード及びこれらの複合検査検査光 3モード（透過光、反射光、透過/反射同時(shí)照明光）検出感度最高感度25nm 　※検出感度は欠陥タイプ?検査方式により異なります検査時(shí)間 105分 / 100mm2（ノーマルスキャン） 60分 / 100mm2（ファーストスキャン）マスクサイズ 6025

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