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檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：ICP等離子體刻蝕機(jī)（深硅）
- 價(jià)格型號(hào)：STS MPX HRM System
- 儀器分類：其它
- 應(yīng)用領(lǐng)域：
- 所屬單位：中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
- 所在地點(diǎn)：
- 產(chǎn) 地：
- 產(chǎn) 商：STS
- 價(jià) 值：0
- 購(gòu)置日期：0000-00-00
技術(shù)指標(biāo)：溫度：0-80度，側(cè)壁垂直度：89°±1°。工藝氣體：He，SF6,C4F8,O2，Ar。 ICP功率：0-3000W，RF功率：0-300W
儀器用途：主要用于硅材料的高速，深度，大深寬比刻蝕。適用于六寸片及以下尺寸。刻蝕均勻性<±5%。
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：450/30分鐘
機(jī)組負(fù)責(zé)人：張嬪 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
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